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低溫等離子技術(shù)■ 技術(shù)作用原理 ■ 去除污染物的基本過程 過程一:高能電子的直接轟擊 過程二:O原子或臭氧的氧化 O2+e→2O 過程三:OH自由基的氧化 H2O+e→OH+H H2O+O→2OH H+O2→OH+O 過程四:分子碎片+氧氣的反應(yīng) ■ 技術(shù)工藝示意圖 上一篇UV光氧化技術(shù)下一篇吸附凈化技術(shù) |
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低溫等離子技術(shù)■ 技術(shù)作用原理 ■ 去除污染物的基本過程 過程一:高能電子的直接轟擊 過程二:O原子或臭氧的氧化 O2+e→2O 過程三:OH自由基的氧化 H2O+e→OH+H H2O+O→2OH H+O2→OH+O 過程四:分子碎片+氧氣的反應(yīng) ■ 技術(shù)工藝示意圖 上一篇UV光氧化技術(shù)下一篇吸附凈化技術(shù) |